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MgO薄膜层被电抗性的射频管喷镀后的表面放电特性
Chung-Hoo Park a,*,Woo-Geun Lee a, Dong-Hyun Kim a, Hong-Ju Ha b, Ju-Youn Ryu b

a 电机工程部，工程学院，釜山国立大学，韩国釜山
b Kumi 展示2个设备，LG 电子学公司，Kyungsang, buk-做，韩国

接收于1998年4月24日；承认于1998年7月31日
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摘要
这篇论文描述了 MgO 薄膜层用电抗性无线电频率平面磁电管在交流等离子体显示板的介电层喷镀后，表面辉光放电的影响。借由介绍在介电体上的一种 MgO 涂料，放电电压急剧地减少，虽然厚度只有几十埃。最低的放电电压是这样获得的：样品是由含有30%的氧气于氧气和氩气的混合气体和在压力约为5毫托的喷镀气体制成。而且，高透明度（达到95%）也是在相同的实验情况下获得。样品比用电子束方法制成的显示出更好的抵抗喷镀性能，且在焊后沉积物的退火中没有发现裂缝。©1998 Elsevier Science S.A.版权所有

关键字：MgO 薄膜层；表面放电，电抗性磁电管喷镀；等离子体显示板
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1 绪论
在最近几年，已做出重要的进展在可利用的商业，真彩，交流电(AC)等离子体显示板(PDPs)方面。布满介电层的 AC PDP 的电极，像 SiO2，然后是 MgO 薄膜层，都被沉积在介电层上。众所周知，AC PDP 的性能会被 MgO 薄膜层[1–3]的表面辉光放电特性所严重影响。 MgO 薄膜层在 AC PDP 里扮演保护介电层免于辉光放电的等离子体的离子轰击的喷镀。另外 MgO 薄膜层也在降低放电起初电压[4-6]方面担任重要角色，而且产出廉价的 PDPs，因为高电压 PDP 造价非常贵。
MgO 薄膜层现在是被电子束蒸发方法[7,8]制成。然而，MgO 薄膜层的一些问题已经被报导；举例来说，裂缝和高的腐蚀率是由于辉光放电[9]的离子轰击放电的结果。为了要改善 MgO 薄膜层的性能, 新的制作方法，像是物理的蒸汽沉淀/化学的蒸汽沉淀处理，或者厚膜层-丝网印刷方法已经被提议[10-13]。在工作中，MgO 薄膜层在用射频电抗性平面磁电管喷镀方法的介电性层上被制成, 和它的表面放电特性已经在研究。尤其是, 为了要改善沉淀率, RF射频电抗
性喷镀方法已被采用。 在研究中，我们主要把重心集中在 MgO 薄膜层准备情况和表面的放电特性之间的关系上。