氮气气氛退火对agfto透明导电薄膜光电性能的影响.doc
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氮气气氛退火对agfto透明导电薄膜光电性能的影响,氮气气氛退火对ag/fto透明导电薄膜光电性能的影响2.2万字 36页 原创作品，已通过查重系统 目录摘要i第1章 绪论11.1 引言11.1.1 氧化锡材料的结构和性能21.1.2 氧化锡材料的研究进展31.2 透明导电薄膜的制备方法51.2.1磁控溅射镀膜61.2.2热喷涂技术61.2.3化学气相沉积法(cvd)7...
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氮气气氛退火对Ag/FTO透明导电薄膜光电性能的影响
2.2万字 36页 原创作品，已通过查重系统
目录
摘要 I
第1章 绪论 1
1.1 引言 1
1.1.1 氧化锡材料的结构和性能 2
1.1.2 氧化锡材料的研究进展 3
1.2 透明导电薄膜的制备方法 5
1.2.1磁控溅射镀膜 6
1.2.2热喷涂技术 6
1.2.3化学气相沉积法(CVD) 7
1.2.4溶胶-凝胶法 7
1.3透明导电薄膜的应用 7
1.3.1显示器件中的应用 8
1.3.2建筑玻璃领域中的应用 8
1.3.3在光电、光热、电热及气敏器件中的应用 8
1.3.4其他方面的应用 8
1.4 本论文研究的主要内容和意义 8
第2章Ag/FTO双层复合薄膜的制备 10
2.1 实验部分 10
2.1.1 实验材料 10
2.1.2 实验仪器 10
2.1.3 实验样品的预处理 12
2.2 薄膜的制备 13
2.2.1 镀膜方法 13
2.2.2 退火处理 13
2.3 结果分析与讨论 14
2.3.1 薄膜的生长模式 14
2.3.2 薄膜生长过程 14
2.3.3退火对表面形貌的影响 15
2.4本章小结 17
第3章 退火对Ag/FTO双层薄膜光电性能的影响 18
3.1 样品性能测试 18
3.1.1 紫外可见分光光度计 18
3.1.2 四探针测试仪 19
3.2 结果分析与讨论 19
3.2.1退火温度对Ag/FTO透明导电薄膜透过率的影响 19
3.2.2退火温度对Ag/FTO透明导电薄膜电性能的影响 21
3.2.3退火时间对Ag/FTO透明导电薄膜透过率的影响 21
3.2.4退火时间对Ag/FTO透明导电薄膜电性能的影响 23
3.2.4退火处理后Ag/FTO透明导电薄膜光电性能的综合评价 23
3.3 本章小结 24
第4章 结论与展望 26
4.1 结论 26
4.2 展望 27
致 谢 28
参考文献 29
摘要 本文采用磁控溅射法在FTO玻璃衬底上室温沉积5 nm厚的金属Ag层，得到Ag/FTO双层薄膜。并对Ag/FTO双层薄膜在氮气气氛中退火，研究了退火温度和时间对Ag/FTO双层薄膜结构、形貌和光电性能的影响。采用扫描电子显微镜（SEM）对薄膜表面形貌进行研究，并通过紫外-可见分光光度计和四探针测试仪对薄膜的光电性能进行了分析。还计算了不同薄膜的品质因子。
结果表明：随着退火温度火或退火时间的升高，晶粒尺寸不断增大，晶粒排列紧密，薄膜的表面变得均匀平整，结晶度逐渐完善。对不同薄膜样品的综合光电性能进行评价发现，经400 ℃退火20 min后的Ag/FTO 双层透明导电薄膜的综合光电性能最好，其品质因子为10.97×10-3 Ω-1 。
关键词：FTO薄膜 磁控溅射 热退火 光电性能
2.2万字 36页 原创作品，已通过查重系统
目录
摘要 I
第1章 绪论 1
1.1 引言 1
1.1.1 氧化锡材料的结构和性能 2
1.1.2 氧化锡材料的研究进展 3
1.2 透明导电薄膜的制备方法 5
1.2.1磁控溅射镀膜 6
1.2.2热喷涂技术 6
1.2.3化学气相沉积法(CVD) 7
1.2.4溶胶-凝胶法 7
1.3透明导电薄膜的应用 7
1.3.1显示器件中的应用 8
1.3.2建筑玻璃领域中的应用 8
1.3.3在光电、光热、电热及气敏器件中的应用 8
1.3.4其他方面的应用 8
1.4 本论文研究的主要内容和意义 8
第2章Ag/FTO双层复合薄膜的制备 10
2.1 实验部分 10
2.1.1 实验材料 10
2.1.2 实验仪器 10
2.1.3 实验样品的预处理 12
2.2 薄膜的制备 13
2.2.1 镀膜方法 13
2.2.2 退火处理 13
2.3 结果分析与讨论 14
2.3.1 薄膜的生长模式 14
2.3.2 薄膜生长过程 14
2.3.3退火对表面形貌的影响 15
2.4本章小结 17
第3章 退火对Ag/FTO双层薄膜光电性能的影响 18
3.1 样品性能测试 18
3.1.1 紫外可见分光光度计 18
3.1.2 四探针测试仪 19
3.2 结果分析与讨论 19
3.2.1退火温度对Ag/FTO透明导电薄膜透过率的影响 19
3.2.2退火温度对Ag/FTO透明导电薄膜电性能的影响 21
3.2.3退火时间对Ag/FTO透明导电薄膜透过率的影响 21
3.2.4退火时间对Ag/FTO透明导电薄膜电性能的影响 23
3.2.4退火处理后Ag/FTO透明导电薄膜光电性能的综合评价 23
3.3 本章小结 24
第4章 结论与展望 26
4.1 结论 26
4.2 展望 27
致 谢 28
参考文献 29
摘要 本文采用磁控溅射法在FTO玻璃衬底上室温沉积5 nm厚的金属Ag层，得到Ag/FTO双层薄膜。并对Ag/FTO双层薄膜在氮气气氛中退火，研究了退火温度和时间对Ag/FTO双层薄膜结构、形貌和光电性能的影响。采用扫描电子显微镜（SEM）对薄膜表面形貌进行研究，并通过紫外-可见分光光度计和四探针测试仪对薄膜的光电性能进行了分析。还计算了不同薄膜的品质因子。
结果表明：随着退火温度火或退火时间的升高，晶粒尺寸不断增大，晶粒排列紧密，薄膜的表面变得均匀平整，结晶度逐渐完善。对不同薄膜样品的综合光电性能进行评价发现，经400 ℃退火20 min后的Ag/FTO 双层透明导电薄膜的综合光电性能最好，其品质因子为10.97×10-3 Ω-1 。
关键词：FTO薄膜 磁控溅射 热退火 光电性能
