硕士毕业论文——硅薄膜的制备及光学性能研究.doc

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硕士毕业论文——硅薄膜的制备及光学性能研究,摘要:本文采用磁控溅射技术,通过改变溅射功率制备了系列非晶硅薄膜,并研究了薄膜的光学性能。结果发现,随着溅射功率的提高,硅薄膜生长速率线性增加。红外光谱测试表明,硅薄膜中含有少量h,并以sih2 的形式存在,随着溅射功率的提高,薄膜中的h 含量逐渐增加,而其光学能隙逐渐从1.58ev 增加到1.74ev。光致发光实验显...
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摘要:本文采用磁控溅射技术,通过改变溅射功率制备了系列非晶硅薄膜,并研究了薄膜的光学性能。结果发现,随着溅射功率的提高,硅薄膜生长速率线性增加。红外光谱测试表明,硅薄膜中含有少量H,并以SiH2 的形式存在,随着溅射功率的提高,薄膜中的H 含量逐渐增加,而其光学能隙逐渐从1.58eV 增加到1.74eV。光致发光实验显示,硅薄膜在380nm 和730nm 处出现了两处发光峰,其峰位几乎没有变化,而其发光强度和硅薄膜中氧化硅的含量有关。