硫酸盐镀铜液中苯并三唑对电压的研究.doc
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硫酸盐镀铜液中苯并三唑对电压的研究,硫酸盐镀铜液中苯并三唑对电压的影响的研究摘 要从酸性硫酸盐镀液中在铂基体上沉积铜的研究有btah或者无btah的条件下,在用伏安法的试验中,沉积速度在含有btah比没有btah的电极更负。而且,沉积过程中电流密度比没有btah时更高。不管有没有添加剂,镀铜层都有成核现象。由扫描电子显微镜成相图可以看出,在含有btah的...
内容介绍
此文档由会员 nankaizhenti 发布硫酸盐镀铜液中苯并三唑对电压的影响的研究
摘 要
从酸性硫酸盐镀液中在铂基体上沉积铜的研究有BTAH或者无BTAH的条件下,在用伏安法的试验中,沉积速度在含有BTAH比没有BTAH的电极更负。而且,沉积过程中电流密度比没有BTAH时更高。不管有没有添加剂,镀铜层都有成核现象。由扫描电子显微镜成相图可以看出,在含有BTAH的镀液中。镀铜层会有所下降,在任何电位和电荷密度下,比没有BTAH更加光滑。X射线谱可以看出,不管有没有BTAH,电沉积物中含有铜的氧化物,铂氧化物。同时也能看出有添加剂比没有添加剂晶粒更少。
关键词 铜; 苯并三唑; 电沉积; 伏安法;显微镜