关于数控稳压电源的外文翻译-----------双极性脉冲电镀电源的设计.rar

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关于数控稳压电源的外文翻译-----------双极性脉冲电镀电源的设计,摘要:双极性脉冲数字电源被用来设计电镀。在设计中为了产生pwm脉冲dspic30f3011是用来充当单片机的。m57962l是用来驱动igbt的。因此,是用光合耦合器来隔离电源主回路控制器。lm331是用来处理a/d转换的。pi的算法是通过控制输出电压和输出电流。试用证明该控制器具有良好的稳定性,且它可以输出双极脉冲,...
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摘要:双极性脉冲数字电源被用来设计电镀。在设计中为了产生PWM脉冲dsPIC30F3011是用来充当单片机的。M57962L是用来驱动IGBT的。因此,是用光合耦合器来隔离电源主回路控制器。LM331是用来处理A/D转换的。PI的算法是通过控制输出电压和输出电流。试用证明该控制器具有良好的稳定性,且它可以输出双极脉冲,其频率可调范围为10HZ到10KHZ。
关键字:双极性脉冲,数字电源,PWM。



























1. 引言
电镀电源是在电镀工业领域的关键设备之一。在目前直流电源和脉冲电源是作为在电源类中的佼佼者而被广泛使用。直流电源输出连续光滑的电流。在电镀过程中,随着时间的变化,电流不会改变目前的方向。虽然采用直流电源因为直流密度大,但是电流效率低,而且它的电镀层质量不好。因为在脉冲电源条件下电镀层的晶体小,更微妙的和对称的电镀层可以得到【1】。而且它的原材料可以被保存,所以在电镀领域脉冲电源已经快速发展【2】。
目前,脉冲电源的研究集中在多变的极性脉冲和高功率【3】。在本文中,介绍了双极性脉冲电源,其脉冲宽度和频率是通过自我设计而实现可调的。主要工艺参数如下所列。脉冲幅度范围从0到24V。脉冲频率范围从10到10kHz。脉冲的占空比,可以改变从0.3到0.9。
2. 硬件设计
2.1脉冲电源的主回路
由于电源工作时,正电压和负电压是不均衡的,即正负脉冲的占空比和工作时间通常是不同的,采用两个参数可单独调整。
图1是脉冲电源主回路的方块图。

Abstract –The double polar pulse digital power source was
designed for plating. dsPIC30F3011 acted as MCU for producing
PWM pulse in the design. M57962L was used to drive IGBT. So
as to isolate controller from main loop of power by
opticalcoupler, LM331 was used to process conversion of A/D.
Arithmetic of PI was adopted to control output voltage and
current. The tryout proved the controller has good stability and
it can output double pole pulse whose frequency is adjustable
from 10HZ to 10KHZ.
Index Terms - double pole pulse, digital power source, PWM

I. INTRODUCTION
Plating power is one of key device in the field of plating
industry. DC power and pulse power are two kings of power
widely used at present. DC power output continuous smooth
current. And the direction of current doesn’t change along
with the change of time in the course of plating. Although the
value of current density is big while DC power is adopted,
current efficiency is low and quality of plating layer is bad.
Because crystal of plating layer is small under pulse power
condition, more subtle and symmetrical plating layer can be
obtained[1]. And raw material can be saved, so pulse power
has been developed rapidly in plating domain[2].